一、关于膜元件的储存

请遵循以下的规定保存膜元件：

存放地点必须阴冷干燥没有阳光直射;

温度范围--4oC~45oC，新的未经使用的干式元件在低于--4oC时不会受影响;保存在1%SMBS标准保护液中的元件在--4oC以下时会结冰，因此应当避免;

将元件尽可能一直保存在原始的包装内，在温度低于45oC时干元件的保存时间没有限制;

用保护液保存的元件，每3个月必须检查一次微生物的生长状况，如果保护液发生混浊或超过6个月的话，应从包装袋中取出元件，重新浸泡在新鲜的保护液中1小时，沥干后再重新作密封包装;

如果没有设备进行保存(如新鲜的保护液、清洁的环境或封袋机)，元件可以在原始的含保护液的袋中存放12个月，当元件装入压力容器中时，启用之前则应采用碱性清洗液进行清洗。

保存液pH不可低于3，当亚硫酸氢钠氧化成硫酸时，pH值会降低，这一点对海水淡化膜元件特别重要，因这此膜元件在低pH贮存时，脱盐率会受到影响。因此，亚硫酸氢纳保存液的pH值每3个月至少要抽样检测一下当pH低于3时，需更新保存液。

二、膜元件的再湿润

经过使用之后的膜元件不慎干燥之后，可能会出现不可逆水通量的损失，请试用以下方式进行元件再湿润：

1.在50%乙醇水溶液或丙醇水溶液中浸泡15分钟;

2.将元件加压到10bar并且将产水口关闭30分钟，但应切记在进水压力泄压之前必须先打开产水出水阀门，该步骤可在元件装入系统内进行，在这种情况下，当产水出口关闭时，进水端与浓水端的压差不应大于0.7bar，否则在浓水端就会出现产水背压，引起膜片的损坏，稳妥的做法是，将产水出口阀门关小，使产水压力接近浓水端压力，这样也就没有必要关心压降的限定问题了;

3.将元件浸泡在1%HCl或4%HNO3中1~100小时，元件必须垂直浸泡，以便于排出元件内的空气。

三、清洗有机物污染

下列清洗程序是专门针对存在有机物如腐植酸和富里酸、阻垢剂或油等污染膜系统的清洗，对于所有清洗过程，其清洗系统配置、pH和温度范围及建议清洗流量值*相同，建议参考通用清洗导则的规定。

采取六个步骤清洗存在有机物污染的膜元件，但这六个清洗步骤需要重复进行，一次为高pH清洗液，另一次为低pH清洗液：

1)按表7-9配制清洗液：

2)低流量输入清洗液。

当清洗水泵混合清洗液，清洗液预热以及用清洗液置换元件内的原水时，应按表7-1所列流量值的一半即按低流量和低压力操作条件进行，所需的压力仅需达到足以补充进水至浓水的压力损失即可。压力必须低到不会产生明显的渗透产水。低压能够大限度的减低污垢再次沉淀到膜表面，视情况而定，应排放部分浓水以防止清洗液的稀释。

3)循环。

当原水被置换掉后，浓水管路中就应该出现清洗液，可以让清洗液循环返回清洗液水箱，循环清洗液30分钟如果清洗液颜色仍发生变化，放掉清洗液重新按步骤1)配制新的清洗液。

4)浸泡。

停止清洗泵的运行，让膜元件*浸泡在清洗液中。元件浸泡时间1~15小时(浸泡过夜将更好)。为了维持浸泡过程的温度，可采用很低的循环流量(约为表7-1所示流量的10%)，浸泡时间随污染严重程度而定，对轻度污染，浸泡1~2小时足够。

5)高流量水泵循环。

按表7-1所列的流量循环30分钟。高流量能冲洗掉被清洗液清洗下来的污染物。如果污染严重，请采用高于表7-1所规定的50%的流量将有助于清洗，在高流量条件下，将产生过高压降的问题，单元件大允许的压降为1bar(15psi)，对多元件压力容器大允许压降为3.5bar(50psi)，以先超出为限。

6)冲洗。

经预处理的合格预处理出水可以用于冲洗清洗液，除非存在腐蚀问题(如静止的海水将会腐蚀不锈钢管道)。为了防止沉淀，低冲洗温度为20oC，系统冲洗时间约1小时。

7)用pH为2的HCl溶液重复步骤2)至6)。

8)重新启动系统。

必须等待元件和系统达到稳定后，记录系统重新启动后的运行参数，清洗后系统性能恢复稳定的时间取决于原先污染的程度。为了获得佳的性能，有时需要多次的清洗和浸泡步骤。

附加信息

A为了提高清洗效率，清洗液的温度必须高于25oC，升高温度有利于帮助清洗液从膜面上除去有机污染物。

B有些有机物如油类非常难以清洗，为了除去它们，需试验各种清洗浸泡时间以获得佳效率。此外，有效的清洗液通常含有表面活性剂如Na-SDS或某些商品清洗剂含有表面活性剂及洗涤剂，它们能帮助除去油污染。请咨询该化学品供应商。

C如果有机污染源于预处理部分加入了过量絮凝剂，相反次序使用清洗剂(先用酸性清洗液后用碱性清洗液)更有效，为了确定合适的清洗液顺序(先高pH后低pH或反之)，请设法获取系统污染物样品，针对样品先用碱性后用酸性溶液或反之，定性地确认何种顺序更好。如果效果相当，通常先用高pH清洗液清洗有机物更为合适。